Новости

Новости

01 апреля, 12:45

Технологии

Резидент ОЭЗ "Технополис "Москва" разработал фотолитограф с разрешением 350 нанометров

В России впервые создали фотолитограф с разрешением 350 нанометров. Ключевое оборудование для производства микросхем разработала компания-резидент "Технополиса "Москва". В настоящий момент менее 10 стран способны делать подобные приборы.

В чем его уникальность? Как столичной компании удалось добиться такого успеха?

Об этом – в эфире телеканала Москва 24.

АО «Москва Медиа» использует cookie-файлы и обрабатывает персональные данные. Это улучшает работу сайта и взаимодействие с ним. Подтвердите ваше согласие, нажав кнопу Ок

OK
закрыть
Обратная связь
Форма обратной связи
Прикрепить файл
закрыть
Яндекс.Метрика